最大的半导体制造设备制造商 ASML 周一表示，该公司已与比利时芯片研究公司 Imec 共同开设了一个高 NA EUV 光刻设备测试实验室。
位于荷兰 Veldhoven 的实验室已筹建多年，它将为领先的芯片制造商和其他设备及材料供应公司提供一个早期机会，使用这种耗资 3.5 亿欧元（约合 3.8 亿美元）的工具，这在同类产品中尚属首次。
ASML 在光刻设备市场占据主导地位，光刻设备是芯片制造过程中的一个核心步骤，在这一过程中，光束被用来创建芯片的电路。
在芯片制造商中，只有台积电（TSMC）、三星（Samsung）、英特尔（Intel）以及内存专家 SK 海力士（SK Hynix）和三星（Samsung）能够使用 ASML 当前一代的极紫外（EUV）设备进行生产。
新的高 NA 工具可将分辨率提高 60%，有望催生更小、更快的新一代芯片。
ASML 周一再次表示，预计客户将于 2025-2026 年开始使用该工具进行商业生产。
迄今为止，ASML 仅向美国英特尔公司交付了一台测试机，该公司计划在 2025 年将该工具用于其 14A 工艺。
虽然 ASML 最大的 EUV 设备客户--台积电表示其 A16 芯片（预计 2025 年投产）不需要使用 High NA 工具，但 ASML 仍获得了十多个订单。
